招標公告

1. 招標條件

本招標項目磁控濺射鍍膜機 該項目已具備招標條件，現(xiàn)對磁控濺射鍍膜機進行國內公開招標。

2. 項目概況與招標范圍

2.1 招標編號：ZKX20250631A001

2.2招標項目名稱：磁控濺射鍍膜機

2.3 數(shù)量：1臺。

2.4 設備用途：

磁控濺射鍍膜機主要用于反應性或非反應性鍍膜工藝沉積復合材料的膜層，其可以很好的控制膜的成份、厚度、均勻性和機械性能等，特別適用于激光器功能性薄膜的制備場景，特別是用于激光器芯片減薄后的金屬電極制作。現(xiàn)有大型磁控濺射鍍膜設備的靶位、極限真空度、加熱溫度不符合，且一些功能性薄膜會污染腔體導致其它鍍膜工藝不穩(wěn)定，因此一臺磁控濺射鍍膜機專門用于激光器芯片電極鍍膜。

2.5 交貨

2.6 交貨期：合同簽訂后12個月內。

3.投標人資格要求

3.1 投標人須具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內注冊的法人或其他組織，具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書或其它營業(yè)登記證書。

3.2 本次招標不接受聯(lián)合體投標。

3.3 本次招標不接受代理商投標。

3.4 投標人2022年1月1日至投標截止之日止（以合同簽訂時間為準）應具備同類型產品的至少1項銷售業(yè)績，提供合同復印件等證明材料。（證明材料應包含：合同首頁及蓋章頁或者簽署頁。）

3.5 信譽要求：未被列入“信用中國” 網(wǎng)站“記錄嚴重失信主體名單，須提供上述網(wǎng)站截圖證明或提供承諾書。

3.6投標人必須向招標代理機構

4.

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來源：中國電力招標采購網(wǎng)
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編輯：365trade